光刻机对准(对位)系统技术路线
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#光学对位技术
于 2021-03-22 13:47:48 首次发布
本文探讨了四种精密光学对准技术：激光步进对准LSA、激光干涉对准LIA、场成像对准FIA以及自相干叠栅条纹的光刻机对准技术。这些技术在微米甚至纳米级别的精度下，对于半导体制造、光刻等领域至关重要，确保了设备组件的精确装配和高精度操作。
1、激光步进对准LSA(Laser step alignment)
2、激光干涉对准LIA(filed image alignment)
3、场成像对准FIA（laser interferometer alignment）
4、自相干叠栅条纹的光刻机对准技术